台积电先前一再表示，半导体设备制造商艾司摩尔（ASML）的高数值孔径极紫外光机台（High-NA EUV），太过昂贵，2026年前使用没有太大的经济效益，但近来台积总裁魏哲家密访ASML总部，让外界不禁猜测，台积是否改变心意。
综合科技媒体wccftech和韩媒BusinessKorea报导，消息人士指出，魏哲家缺席23日登场的台积电2024年技术论坛台湾场，于26日造访了ASML荷兰总部，以及工业雷射公司创浦（TRUMPF）的德国总部。
金融分析师奈斯泰德（Dan Nystedt） 28日在X平台发文写道，台积似乎加入追逐下一世代EUV设备之战，即High-NA EUV机台，理由是魏哲家访问ASML与雷射供应商创浦，而非参与在台湾举行的技术论坛。据传魏哲家的到访，显示台积想买High-NA EUV，此种设备对2纳米以下制程极为关键。ASML去年12月已出货首台High-NA EUV给英特尔。
相关人士分析，台积管理层似乎决定拜访ASML，以确保在全球半导体的主导地位。台积原本打算在2026年下半量产1.6纳米制程后，再导入High-NA EUV。
台积的竞争对手英特尔和三星电子，都已有所行动。英特尔想借着High-NA EUV，达到难以超越的领先优势。最先出货的几台High-NA EUV，都送往英特尔的晶圆代工部门。英特尔想先在1.8纳米试用此种设备，之后正式导入于1.4纳米制程。
三星集团会长李在镕则在4月亲访ASML关键伙伴蔡司（Carl Zeiss）的德国总部，拜会ASML首席执行官傅凯与蔡司首席执行官兰普雷希特，以强化三方的半导体联盟。EUV不只用于2纳米晶圆代工，也用于生产最先进的DRAM，三星为此重押High-NA EUV技术。